Photolithographie

Nous utilisons une technologie de photolithographie sans masque avec une technologie d'optique d'insolation propriétaire. Le MS 10-100 est une station d'écriture directe par laser qui en fait l'outil idéal et essentiel pour les laboratoires de recherche en matière de lithographie pour les activités suivantes: MEMS, BioMEMS, Systèmes Microfluidique, Détecteurs, Composés Optique, MicroPatterns, CMOS et toutes autres applications qui font appel à la microstructuration de surfaces.

Nous proposons aussi un service pour la production de vos patterns ou puces microfluidiques.
En fonction du motif à réaliser, différentes possibilités sont envisagées tels que la lithographie, (structures sur différentes résines potosensibles positives ou négatives)  la gravure humide  sur verre et le dépôt de couche métallique (Chrome-Etching).

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